光刻机只有ASML?这家国产光刻机巨头挺身而出,拥有2400项专利
2020-06-03
自今年美国加紧了对华为芯片的管控,国产芯片就不得不走上自研+脱美的道路。首先,我国像华为这样的高科技公司已经拥有很高端的芯片设计技术,科技水平在全世界都是数一数二的

自今年美国加紧了对华为芯片的管控,国产芯片就不得不走上自研+脱美的道路。首先,我国像华为这样的高科技公司已经拥有很高端的芯片设计技术,科技水平在全世界都是数一数二的。但是如果要想量产芯片,并将其应用到手机,从而推向市场的话,就需要芯片代工厂的支持。而芯片代工巨头台积电在技术上受到了美国的管控,不能再为华为供货,因此华为扶持的国产芯片代工界的新星——中芯国际,要想实现脱美化必须要拥有国产的光刻机。

放眼整个中国市场,唯一有实力更快研发出7纳米制程工艺的当属上海微电子公司,这家公司公司不仅拥有2400项专利技术,在国内市场的市场份额更是占据了80%。全球范围内的光刻机市场基本上由以下4家企业垄断,分别是荷兰的ASML(多国共同研究的成果,目前唯一一家可以提供EUV光刻机的企业,服务于高端市场)、日本的佳能和尼康(服务于中端市场)、以及中国的上海微电子公司(服务于低端市场)。

从上面的介绍可以看出,虽然我国的上海微电子公司在全球的光刻市场拥有自己的一席之地,但到目前为止,它还是一直服务于全球的低端市场。而华为所需的高端芯片,上海微电子的光刻机还没有办法制造,全球唯一一家达到标准的公司就是美国管控的ASML公司的光刻机。所以目前来说,在高端芯片制造领域中国暂时处于被动的地位。

上海微电子公司目前掌握了90纳米工艺的光刻机制造技术,相比排名靠前的其他三家光刻机公司(ASML、佳能和尼康)确实存在不小的差距。尤其是与ASML公司7纳米的工艺差距更是相差甚远。但为了尽早完成脱美化,不受美国的限制,国内很多科技公司都团结了起来,包括上海微电子公司纷纷加快了自主研发的速度。

据5月17日的最新消息称,上海微电子公司计划预计在2021年将完成首台28纳米工艺光刻机的交付。此外,更是有消息称,为缓解美国的压力不耽误国内高科技企业的正常运作,上海微电子公司预计在今年12月份,将可能下线首台采用ArF光源生产的11纳米光刻机。更振奋人心的是,如果采用华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7纳米,该光刻机有生产7纳米工艺制程的潜力,这也就意味着我国的高科技公司有了可以生产高端芯片的实力。

如果上海微电子公司在光刻技术上能够尽快的完成突破,在芯片的制程工艺上早日达到7纳米的工艺技术,那么就能更快的帮助国内的芯片代工商们以及国内受到美国限制的科技们打开一个出口,从目前来看,我国的上海微电子公司具有非常优秀的潜力。

虽然我国相比其他国家在光刻领域发展较晚,而且相比光刻机技术全球第一的ASML公司由多国科研团队共同研究来说,我国科研团队随谈相对薄弱。但近两年来,多次大跨步地向更高端的技术水平迈进,足以说明我国的科研公司以及团队其科技实力不容小觑,对此大家有什么看法呢?